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消失模涂料法墨用高分子将充分漫渍

  消失模涂料法墨用高分子将充分漫渍

  (1)腐蚀的原因  消失模涂料许多石建筑是由石灰石(硝酸露)威合髓的石灰石(碳酸钙和碳配攫)掏成。这两种石灰石对学腐蚀十分酸0,腐蚀的因裹有如下几点:

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  ①霸  当天气处于十分闻沮的槽况下,消失模涂料由霜引起的酸坏作用,仅限于常妥瓤冻影狗的那部分结构,而在建筑结构的量糟和随配量之间,却是很难受到霜的破坏作用的。

  ②大气中的二氯化磕,消失模涂料在石灰石的气孔中,产生硫酸钙和在髓灰石中产生的硫酸镁和硫酸钙引起盐的结晶。这些巴类的重复结晶结果,消失模涂料导致石头表面产生风化及探的空定。在英BI涉及二氧化磕的这-反应是引起建筑物破裂的置赛原因.

  ②嚎酸盐的镕解由雨水中的二氧化撩所引起,形成水溶性的碳酸雹钠和碳酸氢镁。

  (2)防护处理  在早期,石头的肪腐蚀处理是用防水剂,勿树脑乳核、量和其救材料酌应99但未获得成巩鹰为露用的防水阑徐魔缺乏足够的厚度;消失模涂料不足以量止水的透,不同的膨胀效应9g速了该涂量的破裂。

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  消失模涂料较新的方法墨用高分子树监镕藏将石头充分漫渍,或在蔚头的丑陋零,利用不镕性无视苞英的沉淀作用进行妨护,P2加介绍了这一方法。通过使用合适豹单钵对石瞬进行樱遗,以便获撂摄魔仍簇透,随后就地进行聚合而成树指。感耀的单体是酉慧窿酮类。环氟比物英凉烷霓基慧烷类。

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  消失模涂料方法是使钡盐在石灰石9b丑田中记挂。评价露露方路,对石头露赢馅数理构效果。 


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